第43章什么时候开始研发？我们等不及了！

“这设想太大胆了，H53元素，如果融合会不会导致两者之间发生激烈反应？”

“不不不，你漏看了这里，加入Z39中和的话，同比例融合就可以避免了。”

“这个就是那个记忆型复合金属吗？加厚再涂上防辐射涂层……原来如此。”

理论室内。

作为正主的陈默，被何林山等人团团包围。

因为没有椅子，他们干脆席地而坐。

一份份数据被他们抽取了出来。

每份资料都让他们震惊不已。

即便一些他们此前也有研究过的东西，也都会再三确认多看几遍。

以免错过新的内容。

“于是内层形成空穴，外层电子跃迁回内层填补空穴，同时放出波长在0.1nm左右的光子…按照这里面的设想，这台光刻机理论上很有可能到达500皮米的精度。”

“根据布拉格方程的话，很有可能做到这一步！”

“曝光的方法采用的是步进扫描投影式，果然，之前光电所的吴院士就曾经提过一样的理论。”

周坤拿着一份绘图激动不已的蹦了起来。

何林山闻言，二话不说，直接从他手上抢了过去。

连曝光的方式这一步都已经完成了理论了。

而原先的光电所仅仅只是猜测而已。

他认真的从头开始看，每一个字母、每一列公式。

图形上的每一处的解析，和每一行数据。

“大胆的想法，天才的设计！”

“衍射光学元件的光瞳整形技术和基于微反射镜阵列竟然可以这样排列！”

何林山毫不掩饰自己的欣赏。

他话音落下，四周的人纷纷围了上来。

“原来是这样，那么这张图形绘制的就是整体环形光成像。”

“曝光时的逻辑门组成就可以规则组成了。”

“这样的曝光技术，光刻的扫描方式成像的效果更好。”

“学长，这个应该就是实验模拟数据，您看看。”

“对对对，我刚才还疑惑，原来是要这样组合。”

“如果这上面的模拟数据是正确的，那么这类问题就完全解决了。”

其中一人热泪盈眶，激动不已的去拿过何林山手中的图纸。

看着上面的绘图，他嘴上念念有词。

“环形光？环形光分为几成？”

“总共是四级光源，这是分列式。”

陈默从桌上抽出了一份图纸来。